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工藝過(guò)程裝備

新一代磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備
適用行業(yè):航工航天、玻璃幕墻、汽車(chē)隔熱膜、半導(dǎo)體、柔性顯示器、材料研究等。
◆ 采用多腔室模塊設(shè)計(jì)理念,可根據(jù)實(shí)際需要增加腔室。
◆ 通過(guò)磁控濺射技術(shù)在PET或PI等柔性薄膜基底上沉積金屬膜,介質(zhì)膜或陶瓷膜,從而獲得功能性的膜層。
◆ 既能滿(mǎn)足科研院所多品種、小批量產(chǎn)品研制的需求,又能適用于規(guī)模化生產(chǎn)。
◆ 全無(wú)油真空系統(tǒng)。具有糾偏系統(tǒng),防止基材跑偏。

性能指標(biāo)

主要技術(shù)指標(biāo):

基材厚度:PET:10-125μm;PI:8-75μm

有效鍍膜幅寬:1300mm

6組濺射陰極,其中1組孿生陰極

純金屬濺射靶材利用率≥35%;反應(yīng)濺射靶材利用率≥30%;

真空抽率:卷繞室從大氣狀態(tài)到2×10-2Pa,需要時(shí)間≤35min 

鍍膜室(清潔、空載)極限壓力:≤5×10-4 Pa;

卷繞室壓升率(清潔、空載):≤0.5Pa/hr(深冷冷阱工作)

放、收卷徑:400mm(最大);放、收卷芯軸直徑:6 inch(150mm) ;

反饋控制:磁控濺射反饋補(bǔ)氣響應(yīng)時(shí)間≤45μs

鍍膜均勻性,重復(fù)性測(cè)試:在1250mm幅寬范圍內(nèi)濺射均勻性≤±3%

反應(yīng)濺射氣體反饋控制系統(tǒng)(可選):實(shí)現(xiàn)對(duì)反應(yīng)濺射的精細(xì)控制;

前處理:烘烤解熱和線(xiàn)性離子源

在線(xiàn)光學(xué)反射率傳感系統(tǒng)或歐姆測(cè)量傳感系統(tǒng)

張力控制范圍:0-500N ,控制精度:±1%

基膜走速:0.5—10米/分鐘

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